重生归来我誓登权力巅峰第292章 nm光刻机突破近在咫尺
中微公司的工程大楼内正在进行关键的技术评审会。
来自全国各地的半导体专家齐聚一堂对28nm光刻机工程样机的核心部件进行评估。
“光学系统的测试数据令人瞩目。
”威廉姆斯博士指着屏幕屏幕说道“分辨率稳定控制在28nm偏移精度达到±3nm这些指标都达到了设计要求。
但在系统稳定性方面还有提升空间。
” “具体是哪些问题？”李一凡问道。
他特意来参加这次评审会因为这关系到整个项目的推进。
“主要在两个方面。
”威廉姆斯说“一是光强均匀性还不够理想在大视场范围内有微小波动；二是对环境温度的敏感度偏高需要更精密的控制系统。
” 中微公司董事长尹志绕插话道：“这些问题在工程阶段是可以的。
我们已经和南大光电的团队讨论过准备通过调整光刻胶的参数来补偿这些偏差解决。
” “没错。
”王立新说“我们最新研发的光刻胶具有增强的工艺耐受度可以在一定程度上弥补光学系统的不足。
这就是良好创新的优势。
” 这时一位来自中科院的专家提出疑问：“光刻胶的工艺窗有多大？在量产环境下能否保持稳定？” “这就是我们最近的突破点。
”王立新调出一组实验数据“通过优化配方将工艺窗口扩大了30%。
在标准环境下曝光剂量和曝光时间都出现了更大的调节空间。
这对提升良率很关键。
” 李一凡注意到专家们对这一进展非常感兴趣。
他知道工艺窗口的大小与量产的吸力有直接关系。
“系统集成方面的进展如何？”中科院的专家继续提问。
“已经完成了六个核心模块的组合。
”威廉姆斯说道“现在最关键的是光学系统和机械系统的配合。
为此我们专门开发了一套新的控制算法可以实时补偿机械振动带来的影响。
” 技术总监詹姆斯补充道：“这套算法的创新点引入了人工智能技术。
通过机器学习系统能够自动识别和修改各种托盘刻源。
这在全球的光机领域都是首创。
” “标准化确实是个好办法。
”专家组组长点头说“但要注意信息安全。
系统的自主可控性必须有保证。
” “这方面我们考虑周全。
”威廉姆斯说“所有的核心算法都是自主开发关键模块全部采用国产芯片。
特别是在安全防护方面我们采用了物理隔离的方案。
” 就在评审会进行时南大光电传来好消息：新一代光刻胶在中试生产中取得重要突破各项指标均达到预期良品率超过90%。
“这个突破来得时候。
”尹志绕说“意味着在材料和设备方面我们都具备了产业化的基础。
” “我建议成立一个联合工作组。
”专家组组长说“由中微和南大光电的核心团队组成专门解决工程机阶段的配合问题。
这样可以进一步发挥良好效果。
” “这个建议很好。
”李一凡说“省里给了我们500亿的支持就是要推动这种深度合作。
两个团队要真正实现技术共享、资源互补。
” “我们已经准备好了。
”威廉姆斯说“计划从两边各抽调15名骨干工程师组成联合攻关小组。
重点解决三个问题：光学系统的稳定性、工艺参数的匹配度、以及量环境产下的良率控制。
” “人员已经选好了。
”王立新补充道“我们选了几位在日本工作的工程师他们在工艺整合方面经验丰富。
同时还补充了试线抽调了生产骨干确保实验室成果能够顺利转化。
” 专家组的另一位成员提问：“工程机的时间节点能否保证？” “按照目前完成的细节明年一季度末就可以出机。
”威廉姆斯说“关键部件都已经完全加工和测试剩下的主要是系统集成和工艺优化。
这些工作有南大光电配合会提高效率。
” “工艺优化很关键。
”专家组组长说“建议多进行极限测试特别是在高温、振动等极限条件下的表现。
这些数据对后续量产很重要。
” “同意。
”尹志绕说“我们已经建立了专门的测试实验室配备了最先进的分析设备。
可以模拟各种工况下的运行状态。
” 就在今年市科技局局长刘青松带来了一个好消息：“省里决定追加20亿专项资金支持实验室联合建设。
重点用于购置投资测试设备和引进高端人才。
” “人才引进要抓紧。
”专家组组长表示“现在全球的光刻机人才非常紧缺要提前布局。
特别是系统集成方面的专家更是一时难求。
” 李一凡立即表态：“我们在人才政策上不设定上限。
顶尖人才的待遇可以一事一议关键是真正的高手请来。
” “已经有进展了。
”市人社局局长杨国强说“通过猎头公司联系到三位在日本工作的华人专家他们在光机行业都有十五年以上的经验。
目前正在洽谈具体条件。
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